FDNS21: Ван-дер-ваальсова эпитаксия атомарно тонких оксидов металлов

20.01.2021 Лили Цай, Университет Иллинойса в Урбана-Шампейн, Урбана, Иллинойс Этот доклад является частью семинара FDNS21: «Будущие направления в синтезе наноматериалов: от рационального проектирования к производству на основе данных», организованного подразделением нанопроизводства (nanoMFG) Университета Иллинойса в Урбана-Шампейн. Презентации для этого семинара можно найти на nanoHUB по адресу https://nanohub.org/resources/35001 Содержание: 00:00 Эпитаксия Ван дер Ваальса атомарно тонкого оксида металла 00:54 Кампус UIUC 01:27 Двумерные (2D) материалы 02:45 2D оксиды металлов – менее изученные 04:08 Предыдущие попытки получения атомарно тонкого MoO3 05:04 Пламенный синтез 06:17 Предыдущие попытки пламенного синтеза 07:03 Установка для пламенного синтеза 08:08 Пламенный синтез – высокая скорость роста 09:05 Пламенный синтез – равномерное распределение по большой площади 09:45 Пламенный синтез – контролируемая морфология 10:20 Пламенный синтез – контролируемая концентрация газа 12:23 Пламенный синтез уникального Фазы и составы 12:48 Пламенный синтез многослойного MoO3 13:48 Выращивание многослойного MoO3 14:16 Контроль толщины с помощью коэффициента эквивалентности пламени 15:06 Выращивание монослоя MoO3 15:23 Характеризация материала 16:11 Выращивание MoO3 на различных 2D-материалах 17:09 Легирование WSe2 дырками методом пламенного осаждения MoO3 18:02 Электрические характеристики MoO3/WSe2 19:03 Легирование графена дырками методом пламенного осаждения MoO3 20:06 Измерение характеристик устройства MoO3/графен 21:12 Контактное и поверхностное сопротивление MoO3/графен 22:34 Оценка плотности носителей заряда в MoO3/графене 23:10 Основные причины более сильного легирования методом пламенного осаждения MoO3 24:46 Краткое содержание 32:59 Контроль толщины с помощью коэффициента эквивалентности пламени